玻璃基板上电镀金属膜对化学气相沉积法生长石墨烯的影响开题报告

1. 本选题研究的目的及意义

近年来，石墨烯以其优异的电学、热学、力学和光学性能，在电子器件、储能材料、复合材料等领域展现出巨大的应用潜力。

化学气相沉积法(cvd)作为一种可控性高、成本相对较低的方法，在大面积高质量石墨烯制备方面备受关注。

然而，传统的cvd法生长石墨烯通常需要使用昂贵的过渡金属(如铜、镍)作为催化衬底，这限制了石墨烯的进一步应用。

2. 本选题国内外研究状况综述

近年来，石墨烯的制备与应用研究取得了显著进展，其中cvd法制备石墨烯因其可控性好、成本相对较低等优势，成为研究热点。

国内外学者在cvd法制备石墨烯方面进行了大量的研究工作，取得了一系列重要成果。

1. 国内研究现状

3. 本选题研究的主要内容及写作提纲

本研究将以玻璃基板为衬底，采用电镀技术制备金属薄膜作为催化层，并利用化学气相沉积法生长石墨烯。

主要研究内容包括：(1)不同金属膜对石墨烯生长的影响(2)电镀参数对石墨烯生长的影响(3)金属膜/玻璃界面特性对石墨烯生长的影响(4)生长机理探讨

1. 主要内容

4. 研究的方法与步骤

本研究将采用实验研究与理论分析相结合的方法。

首先，通过查阅文献调研玻璃基板上电镀金属膜和cvd法生长石墨烯的相关研究进展，了解该领域的最新研究成果和发展趋势，为本研究提供理论基础和实验指导。

其次，进行实验研究，制备不同金属膜/玻璃基板复合材料，并利用cvd法在其表面生长石墨烯。

5. 研究的创新点

本研究的创新点在于：(1)采用电镀技术在玻璃基板上制备金属催化层，为低成本、高质量石墨烯的制备提供新的思路和方法。

(2)系统研究了不同金属膜、电镀参数以及金属膜/玻璃界面特性对石墨烯cvd生长过程的影响，揭示了其影响机制，为石墨烯的可控制备提供了理论指导。

(3)将电化学技术与材料科学相结合，为石墨烯的制备和应用研究提供了新的思路和方法。

6. 计划与进度安排

第一阶段 （2024.12~2024.1）确认选题，了解毕业论文的相关步骤。

第二阶段（2024.1~2024.2）查询阅读相关文献，列出提纲

第三阶段（2024.2~2024.3）查询资料，学习相关论文

7. 参考文献（20个中文5个英文）

[1] 王晓峰, 刘忠范. 石墨烯的研究进展[j]. 大学化学, 2009, 24(1): 15-22.

[2] 张艳峰, 魏永生, 张志勇, 等. 化学气相沉积法制备大面积石墨烯的研究进展[j]. 无机材料学报, 2010, 25(6): 561-566.

[3] 刘忠范, 张锦. 石墨烯的化学气相沉积生长[j]. 中国科学: 化学, 2011, 41(9): 1097-1117.